一、產(chǎn)品特點(diǎn)

1．顯微鏡LED無(wú)掩膜曝光系統(tǒng) UTA-IA系列是不需要使用光罩就可以完成曝光的Pattern投影式曝光設(shè)備；

2. 使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀、即可把解像度數(shù)μm的任意Pattern投影在涂布光阻的基板上,進(jìn)行曝光；

3. Pattern可以使用電腦自由操作；

4.顯微鏡LED無(wú)掩膜曝光系統(tǒng) UTA-IA系列將多種大小,形狀以及層狀在大氣環(huán)境下形成電極在單晶薄膜上,比起電子束曝光機(jī)價(jià)格來(lái)的便宜,方便性高.使用時(shí)也不需要制作Pattern Mask。

二、產(chǎn)品用途

1. 薄膜FET以及Hole效果量測(cè)用試料的電極形成；

2．從石墨烯鉬礦石取出薄片，進(jìn)行礦石特性評(píng)價(jià)的電極形成；

3. 面向研究開(kāi)發(fā)方向的模式形成。

三、產(chǎn)品特征

1. 因?yàn)槭秋@微鏡和DLP的組合,所以比現(xiàn)有的系統(tǒng)要便宜的曝光設(shè)備；

2. 因?yàn)槭呛?jiǎn)單好用的專用軟件,所以可以簡(jiǎn)單的做成各種模式；

3. 用對(duì)物鏡頭的倍率,可以從微細(xì)模式到廣范圍的一次全部曝光；

4. 可安裝在所有的顯微鏡上（根據(jù)顯微鏡的規(guī)格要求）；

5. 解像度數(shù)μｍ模式成形可以；

6．曝光范圍：大2.5mm×1.5mm，最小100um×60um。

四、軟件界面

*曝光前可試投影。（使用紅光，不會(huì)感光）

*用白色光曝光。（可設(shè)定曝光時(shí)間）