追光赴滬，智啟新程｜深圳山河精測亮相第二十一屆慕尼黑上海光博會，四大光電精密系統重磅展出

2026 年 3 月 18 日 —20 日，亞洲光電盛會 ——第二十一屆慕尼黑上海光博會 在上海新國際博覽中心盛大啟幕。作為深耕光學檢測、精密光電裝備領域的創新企業，深圳山河精測攜四款自研核心系統亮相展會，面向半導體先進封裝、光學材料檢測、微納加工、AR 光學顯示等前沿賽道，展示精密光電設備創新成果，與行業同仁共探光電產業發展新機遇。

慕尼黑上海光博會匯聚激光、光學、光電檢測、精密制造上下游千家企業，是前沿技術交流、產業鏈資源對接的核心平臺。深圳山河精測立足自主研發，持續攻堅光電檢測與精密對位裝備技術難點，本次參展集中展出經過市場驗證的主力設備與創新自研系統，展現公司在光學量測、微納曝光、AR 光學檢測、半導體精密貼合四大方向的技術實力。

本次參展核心展品一覽

 雙折射應力儀

雙折射應力儀采用偏振光學測量方案，實現材料內部應力全場無損、定量檢測，可精準獲取光學玻璃、晶圓、光學鏡片、蓋板材料的應力分布與相位差數據。設備廣泛應用于光學元件、半導體基板、消費電子光學零部件質檢，有效解決材料內應力導致的形變、光學畸變難題，助力企業嚴控來料與成品品質。

顯微 LED 無掩膜曝光系統

系統搭載高精度顯微光學光路與 LED 數字化曝光光源，無需制作物理掩膜，支持圖形靈活編輯、快速切換，具備微米級曝光精度。適配微流控芯片、PCB 微型線路、半導體微結構、光學元件微納圖形加工等場景，縮短研發打樣周期，兼顧小批量試制與柔性生產需求，為科研機構、精密加工企業提供輕量化、高性價比微納加工解決方案。

AR 雙目虛像檢測系統（自主設計）

針對 AR 光學模組行業痛點，深圳山河精測自主研發 AR 雙目虛像檢測系統。依托雙目成像與光學解析算法，精準完成虛像清晰度、視場、畸變、色差、重合度等關鍵參數自動化檢測，解決傳統人工檢測一致性差、效率低下的行業難題。可適配 AR 眼鏡、光波導模組、VR 光學組件產線在線檢測，助力新一代近眼顯示產品量產良率提升。

半導體封裝上下對位貼合系統

專為半導體先進封裝工藝打造的高精度視覺對位貼合設備，搭載多視角視覺定位模塊與高穩定運動平臺，實現芯片、基板、光學元器件上下微米級精準對位貼合。系統支持多種封裝工藝適配，具備高重復定位精度、動態糾偏、實時視覺反饋能力，滿足 Mini/Micro LED、光電子器件、精密芯片封裝自動化生產需求，賦能半導體封裝產線智能化升級。

展會期間，深圳山河精測技術研發團隊現場駐場，面向來訪客戶提供設備技術講解、工藝方案咨詢、定制化裝備需求對接，結合客戶實際產線工況，提供一站式光學檢測、微納加工、精密貼合整體解決方案。

光電產業進入高速發展周期，半導體先進封裝、AR 近眼顯示、微納制造、光學材料賽道需求持續增長。深圳山河精測始終堅持自主創新、精密為本，持續深耕光電檢測設備與自動化精密系統研發，不斷突破核心光學、視覺算法、精密運動控制關鍵技術，致力于為國內外客戶提供穩定可靠的國產化裝備。